NanoFlip納米壓痕儀可以提供您的材料研究實驗室?guī)頍o限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip設(shè)計的標志，當需要進行成像集成，需要進行頻繁的轉(zhuǎn)換和廣泛的樣本控制時，無論是環(huán)境測量還是原位測試，無論有無真空，都能提供同樣出色的結(jié)果。

革命性的Fib2Test技術(shù)允許用戶將樣品傾斜90度，以便在雙光束SEM內(nèi)從FIB無縫過渡到壓痕測試，而無需移除樣品。

 

設(shè)計為完全真空兼容，并且具有獨特的樣品觸發(fā)功能，NanoFlip非常適用于現(xiàn)場環(huán)境，如SEM，F(xiàn)IB和真空室，或者當您的實驗帶您遷移時，可以在任何情況下工作 可以想象的成像系統(tǒng)，如AFM，光學顯微鏡和光學Pro測量儀，為您提供幾乎無限的成像選項。

項目	規(guī)范
執(zhí)行機構(gòu)
位移測量	電容式儀表
位移范圍	50um
位移分辨率	0.004nm
典型的噪音	<0.1nm
加載應(yīng)用程序	線圈/磁鐵
最大負載	50mN
加載分辨率	3nN
硬度計壓強剛度	200N/m
阻尼系數(shù)	0.05N-s/m
共振頻率	150Hz
控制器
數(shù)據(jù)采集速率	100kHz
CPU控制速率	1000Hz
時間常數(shù)	20us或更高
動態(tài)激勵頻率	0.1Hz-0.1kHz

電磁執(zhí)行器用于Nanomechanics生產(chǎn)的所有系統(tǒng)，包括NanoFlip。 這些執(zhí)行器是堅固的線性裝置，固有地解耦力和位移。 它們的最大力為50 mN，分辨率為3 nN，超低噪聲電流小于200 nN。

NanoFlip的時間常數(shù)為20微秒，是唯一同時符合規(guī)格的商用納米壓痕儀，最大壓痕行程為50μm，噪聲<0.1nm，數(shù)字分辨率為0.004 nm，漂移率為< 0.05nm/s。

為了確保業(yè)內(nèi)最廣泛，最可靠的數(shù)據(jù)，NanoFlip能夠?qū)崿F(xiàn)0.1 Hz至1 kHz的動態(tài)激勵頻率。

樣品臺移動，Z軸為25 mm，X為21 mm，Y軸為21 mm，分辨率為nm，可在大面積上精確定位樣品。

載荷框架剛度> 7 e5N/m

獨特的尖端校準系統(tǒng)集成到軟件中，可實現(xiàn)快速，準確和自動的尖端校準。

可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和標準

用劃痕選項，最大正常載荷為50 mN，最大劃痕距離為2.5 mm，最大劃痕速度為500μm/ s。

可選的NanoBlitz地形和層析成像軟件，用于材料的3D和4D映射。